納米資料防護口罩
產物描寫
1.微(wei)生物過濾裝置率低于99%。
2.過(guo)濾程序大道(dao)理(li):所經操作過(guo)程奈米孔與電磁干擾駐極熔噴(pen)布比(bi),不再溫(wen)空氣濕度、空氣濕度等本身前題反應(ying),可反復不斷地采取或持(chi)續不斷采取300小(xiao)時候。
3.氣氛(fen)水頭損(sun)失(shi)小(xiao),大于30pa,吸(xi)汗(han)性好。
上一個
一次性利用醫用口罩
下一個
無
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